PECVD制備雙陷波濾光片.pdf

1、隨著激光在軍事、醫(yī)療、工業(yè)等領域中的應用不斷擴大，人員的安全和光電探測系統(tǒng)的正常使用都面臨巨大風險，故采取一定的激光防護措施是必要的。針對532nm和1064nm這兩個常用波長激光的威脅，采用薄膜干涉技術研制一種能夠同時有效防護532nm和1064nm波長激光的雙陷波濾光片，對于保護人眼和紅外光電系統(tǒng)具有十分重要的研究意義和應用價值。
　　本文主要研究了雙陷波濾光片的膜系設計方法，并采用PECVD技術完成了雙陷波濾光片的制備。首先

2、，基于不同的膜系設計理論，研究了532nm和1064nm雙陷波濾光片的膜系設計方法，設計、優(yōu)化出六種膜系方案，并比較確定了較優(yōu)的膜系結(jié)構;其次，研究了PECVD技術制備SiNx材料、SiOxNy材料、SiOxFy材料的工藝技術和最佳工藝參數(shù);最后，采用PECVD技術完成了532nm和1064nm雙陷波濾光片的制備，并對測試結(jié)果進行了誤差分析。獲得的主要結(jié)論如下:
　　(1)利用傳統(tǒng)HL膜系、Rugate膜系或混合漸變膜系，通過選擇

3、合適的初始膜系，并結(jié)合一定的優(yōu)化方法，可以得到多種滿足設計指標的膜系結(jié)構。膜系A12O3|(0.5L3M0.5L)2(0.5L3H0.5L)8(0.5L3M0.5L)2|air，具有良好的光譜性能。從優(yōu)化的角度來看，它易于實現(xiàn)更高的光譜性能，僅采用梯度法即可優(yōu)化得到較優(yōu)的設計結(jié)果。從制造的角度來看，它僅需要三種不同折射率的材料，且具有較少的膜層數(shù)和膜層總厚度，以及較大的最薄層幾何厚度，易于制備。
　　(2)采用最佳工藝參數(shù)制備的單