基于PDMS的納米光柵的工藝研究.pdf

1、光柵作為一種非常重要的光學元件，被廣泛應用于集成光路、光通信、光學互連、光信息處理、光學測量等領域中。目前，光柵的應用多集中在納米尺度，所以納米光柵制備工藝的研究有著十分重要的意義。
　　目前，制作納米光柵的方法多種多樣。但是，已有的納米光柵加工工藝，如全息光刻、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻等，所使用的設備往往比較昂貴、復雜、難以控制，而且工藝條件苛刻，制作成本高、周期長，而飛秒激光直寫法、雙光束干涉法可用來制作周期為幾百納

2、米的光柵，但是制作出來的納米光柵平直性不好，光路復雜，工藝過程不好控制。
　　針對這些問題，本文提出了一種全新的納米量級光柵的制作工藝。首先，利用傳統(tǒng)光刻方法，制作出周期在微米級別的光柵母模，然后利用彈性材料PDMS進行翻模復制，并對PDMS薄膜進行拉伸，使得其表面的內(nèi)嵌式光柵結構周期變小，之后利用PMMA對其進行復制。反復多次，即可得到納米光柵。利用該方法，我們得到了線寬在納米級別的光柵結構，并進行了相關測試，效果良好。