納米TiO-,2-復合膜光致界面電荷轉移特性研究.pdf

1、納米半導體材料TiO2以其優(yōu)異的光電特性，已成為光催化和光電化學太陽能電池研究領域最重要的材料之一。目前人們正試圖通過各種方法降低光生電子—空穴對的復合幾率，拓展TiO2光譜響應范圍，以提高其光催化活性和光電轉換效率。 本文采用離子束濺射法制備納米TiO2及其與半導體ZnO，ZrO2的復合膜，采用旋轉涂膜法用多吡啶釕配合物對所制備樣品進行表面敏化。利用表面光電壓譜(SPS)和場誘導表面光電壓譜(EFISPS)測定樣品的禁帶寬度和

2、表面態(tài)能級，分析各薄膜的光電轉換特性和光致界面電荷轉移的機理。本文中選用的復合半導體材料ZnO，ZrO2的禁帶寬度與TiO2接近，兩材料在復合時能級匹配較好；對復合薄膜進行表面敏化改善TiO2光電特性的方法目前研究較少，具有較高的價值；試驗中所使用的兩種多吡啶釕配合物敏化劑均為新合成的釕的配合物。 試驗結果表明多吡啶釕配合物敏化的TiO2復合膜具有良好的能帶結構，不但能有效促進光生電子和空穴分離，而且還拓展了TiO2光譜響應范圍