非常偏振光在晶體內(nèi)表面反射與透射的研究.pdf

1、隨著科學技術的發(fā)展，用晶體制成的各種光學器件被越來越廣泛的應用，尤其是在光電技術和通信領域。光在晶體中傳播的相關性質(zhì)是現(xiàn)代光學器件設計的重要理論依據(jù)。其中，光波在晶體界面上的菲涅耳反射是造成光學器件插入損耗的一個主要因素。因此，
　　 本論文利用折射率面和電磁場邊界條件，通過幾何作圖法，分析了非常偏振光在單軸晶體和雙軸晶體內(nèi)表面的雙反射現(xiàn)象，以及菲涅耳反射情況。具體成果如下：
　　 1．研究了單軸晶體光軸任意、非常偏振光

2、由晶體入射到各向同性介質(zhì)時，晶體內(nèi)表面的菲涅耳反射。利用單軸晶體的折射率面，通過幾何作圖法分析了晶體表面的雙反射和折射，得到了反射光波、反射光線、折射光波和折射光線的位置。根據(jù)電磁場邊界條件和晶體的雙反射效應，得到了單軸晶體內(nèi)表面上的反射系數(shù)和透射系數(shù)，以及反射率和透射率的解析表達式。
　　 2．研究了雙軸晶體入射面是主軸截面時，晶體內(nèi)表面的菲涅耳反射。借助于雙軸晶體的折射率面，通過作圖確定了反射光波、反射光線、折射光波和折射光